德國蔡司X射線顯微鏡 Xradia Synchrotron 系列-華普通用

型號:Xradia Synchrotron 系列
蔡司X射線顯微鏡 Xradia Synchrotron 系列用于同步輻射實驗室的納米級 X 射線顯微技術(shù)

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產(chǎn)品描述

在同步輻射實驗室內(nèi)實現(xiàn)能量可調(diào)的超高分辨率三維成像

蔡司 Xradia Synchrotron 解決方案將納米級 X 射線成像技術(shù)引入到同步輻射實驗室中,讓耗時且耗費財力的自主研發(fā)成為過去。專屬的 X 射線光學(xué)器件和成熟的三維 X 射線顯微技術(shù),使超亮的可調(diào) X 射線光束在現(xiàn)代化的同步輻射實驗室內(nèi)得以綜合應(yīng)用。借助優(yōu)于30 nm 的分辨率在多種襯度模式下完成快速的非破壞性三維成像。Xradia Synchrotron 系列包含成像和掃描顯微鏡,覆蓋從軟 X 射線到硬 X 射線的寬波長范圍。

斷層成像、熒光、冷凍技術(shù)

Xradia 800 Synchrotron:硬 X 射線納米斷層成像技術(shù)
三維 X 射線斷層成像能夠提供內(nèi)部結(jié)構(gòu)的詳細(xì)體積數(shù)據(jù),而無需對感興趣的區(qū)域進行切割或切片處理。工作能量范圍為 5-11 keV,可利用 <30 nm 的分辨率對不同種類的樣品成像,包括電池和燃料電池的電極材料、催化劑及軟硬組織等。Xradia 800 Synchrotron 是先進技術(shù)的理想之選 ,如用于三維化學(xué)分布和原位成像的 XANES 光譜學(xué)-顯微成像技術(shù),能夠讓您在實際操作環(huán)境條件下研究材料特性。

 

Xradia 825 Synchrotron:軟 X 射線納米斷層成像技術(shù)
在軟 X 射線波長范圍內(nèi)完成三維斷層成像,包括能量從“水窗”波段到2.5 keV 的中能波段,非常適合于完整細(xì)胞和組織的結(jié)構(gòu)成像。低溫樣品處理可以實現(xiàn)對含水樣品進行成像,在盡可能保持樣品接近自然狀態(tài)的情況下,更大限度地減少輻射損傷的影響。其他應(yīng)用還包括有機和無機材料的化學(xué)態(tài)分布及磁疇成像。

Xradia 835 Synchrotron:X 射線熒光顯微技術(shù)
硬 X 射線納米探針非常適合于借助超高靈敏度進行痕量元素分布和定量分析的應(yīng)用。這類應(yīng)用可能包含金屬和功能性納米顆粒在健康與疾病領(lǐng)域中的效用、植物內(nèi)攝入的重金屬、太陽能電池及其它功能性材料中的污染和缺陷。Xradia 835 Synchrotron 是一套靈活且可擴展的平臺,它將蔡司波帶片光學(xué)器件與 X 射線熒光、光譜和衍射等已有的分析技術(shù)相結(jié)合。低溫樣品處理能在需要高分辨率成像的生命科學(xué)應(yīng)用中更大限度地減少輻射損傷的影響。

利用蔡司成熟的同步輻射平臺,將更多的時間和精力投入到研究中,而非把財力和時間浪費在內(nèi)部自主開發(fā)上。

根據(jù)研究任務(wù)需求,選擇更適合的三維 X 射線顯微技術(shù)平臺。

 

Xradia 800 Synchrotron:硬 X 射線納米斷層成像技術(shù)
綜合運用 <30 nm 的分辨率完成非破壞性三維斷層成像,在無需對感興趣的區(qū)域進行切割或切片處理的情況下獲取樣品的詳細(xì)體積數(shù)據(jù)

體驗先進技術(shù)的靈活性并對大量樣品進行原位成像,借助優(yōu)異的圖像品質(zhì)和高效性能來了解實際操作環(huán)境條件的影響

使用 XANES 光譜二維成像來表征電化學(xué)器件或催化劑中氧化狀態(tài)

 

Xradia 825 Synchrotron:軟 X 射線納米斷層成像技術(shù)
使用“水窗”波段對自然潮濕環(huán)境中的有機樣品進行高襯度成像

對完整細(xì)胞和組織的結(jié)構(gòu)進行成像,使用低溫樣品處理較大限度地減少輻射損傷的影響

關(guān)聯(lián)光學(xué)熒光顯微技術(shù),用以對結(jié)構(gòu)和功能進行組合關(guān)聯(lián)成像

Xradia 835 Synchrotron:X 射線熒光顯微技術(shù)
Xradia 835 Synchrotron 是一套靈活且可擴展的平臺,它將蔡司專屬的光學(xué)器件與 X 射線熒光、譜學(xué)和衍射等分析技術(shù)相結(jié)合

借助超高靈敏度進行痕量元素的二維分布和定量分析

在利用低溫樣品處理技術(shù)更大限度地減少生物樣品內(nèi)輻射損傷的同時以優(yōu)至 30 nm 的分辨率進行成像


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